本發明公開了一種單片工藝腔的晶圓檢測裝置,包括:光信號發射端、光信號接收端和模式控制部件;模式控制部件在晶圓作業過程中關閉光信號發射端,以防止光信號發射端發射的光信號和作業過程中的晶圓的膜層產生光化學反應。本發明還提供一種單片工藝腔的晶圓檢測方法。本發明能防止晶圓檢測裝置的光信號對晶圓的膜層產生光化學反應并從而能避免由此產生的缺陷,特別有利于防止雙大馬士革工藝中的溝槽或通孔開口的干法刻蝕后的濕法刻蝕中的銅擴散。
聲明:
“單片工藝腔的晶圓檢測裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)