本發明提供一種化學機械(CMP)拋光墊,其具有頂部表面、經調適以接收端點檢測窗口的一個或多個孔口、具有凹陷部分且具有一個或多個凸緣端點檢測窗口(窗口)的下側,每個窗口具有經調適以緊密地裝配到所述拋光層的下側的凹陷部分中的凸緣,所述凸緣具有略微小于所述拋光層的凹陷部分的深度的厚度(以允許粘著劑),具有緊密地裝配到所述拋光層中的孔口中的檢測區域以使得其頂部表面大體上與所述拋光層的所述頂部表面齊平。
聲明:
“凸緣光學端點檢測窗口和含有其的CMP拋光墊” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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