本實用新型提供一種干法刻蝕機臺的設備前端模塊的顆粒堆積物清理檢測系統,包括:檢測盒,設置在干法刻蝕機臺的設備前端模塊上;酸性指示劑,裝填在檢測盒之內,能夠吸附設備前端模塊的顆粒堆積物并且與顆粒堆積物產生化學反應;PH值探測器,安裝在檢測盒上并且能夠與酸性指示劑相接觸,以檢測酸性指示劑的PH值;控制面板,與PH值探測器連接,用于接收PH值探測器的檢測值,控制面板將檢測值與預設值相比較,以判斷是否需要對干法刻蝕機臺的設備前端模塊的顆粒堆積物進行清理。本實用新型避免了過早及滯后對顆粒堆積物進行清理造成的不利影響,降低了人工成本、提高了干法刻蝕機臺的利用率,提高了晶圓刻蝕工藝的效率和質量。
聲明:
“干法刻蝕機臺的設備前端模塊的顆粒堆積物清理檢測系統” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)