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    CMP終點檢測方法與相變存儲器底部接觸結構形成方法

    1094   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:19:35
    本發明提供一種相變存儲器底部接觸結構的形成方法，包括：提供表面形成有至少兩個導電插塞結構的晶片；在該晶片的表面依次淀積刻蝕終止層、第一介電層、第二金屬層；光刻、刻蝕第二金屬層、第一介電層與刻蝕終止層形成開口，該開口的兩個相對的側壁分別落在兩個導電插塞上；淀積第一金屬層；去除相鄰導電插塞之間的第一金屬層；淀積第二介電層，填充所述開口；依次研磨第二介電層、第一金屬層、第二金屬層形成相變存儲器底部接觸結構，所述研磨過程中，采用感應電流法檢測研磨終點。本發明還提供一種化學機械研磨終點的檢測方法，不限于相變存儲器底部接觸結構的制作。采用本發明的技術方案，對研磨終點的判斷準確，且對硬件的要求低。
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