本發明公開了一種測量托卡馬克第一壁材料表面氘或氚滯留二維分布方法,用于磁約束聚變裝置的第一壁材料表面的氘(氚)元素滯留特性的研究,得到壁材料表面微小區域的氘(氚)元素的二維分布。其特征在于用兩束高功率可調諧脈沖激光分別共振解離C-H、C-D化學鍵(解吸附)和共振電離H、D原子,高效率的產生H+、D+離子,用飛行時間質譜對氘(氚)離子進行檢測。用顯微鏡/攝像機系統觀察被測樣品區域,用精密二維電動平臺實現樣品二維分析,本發明可高靈敏,高分辨、快速高效的測量氘(氫、氚)元素在第一壁材料表面的分布情況,為細致研究氘(氚)表面滯留特性提供依據。
聲明:
“測量托卡馬克第一壁表面氘或氚滯留空間分布方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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