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    超小接觸角值的測量所需采用的光學處理裝置

    1169   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:24:13
    本實用新型公開了一種超小接觸角值的測量所需采用的光學處理裝置，屬于界面化學分析測試技術領域。它包括包括光學機構、測樣機構和成像裝置。本實用新型有效地降低了小接觸角液滴時的背景光漫反射導致的無法有效成像或液滴邊緣輪廓不清晰的問題；同時，由于在樣品臺和成像系統中均采用了微米級的二維水平調整機構，也有效的解決了背景光擋光或液滴整體被擋的問題，從而實現了可以高精度、方便地測量小接觸角的目的，為半導體、晶圓、空調器等高精密行業測試小接觸角值提供了可能，也大大提升了測值的精度和可靠度，測值精度高，操作方便，具有非常高的推廣價值。
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    “超小接觸角值的測量所需采用的光學處理裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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