本公開的系統和方法對襯底處理系統中的各種非均勻性進行原位感測和實時補償。通過確定設置在襯底支撐件中的多個微型加熱器的矩陣上的溫度分布來感測等離子體非均勻性。替代地,通過使用矩陣加熱器和用于加熱襯底支撐件的一個或多個區域的一個或多個加熱器確定穿過襯底支撐件的熱通量來感測等離子體非均勻性。等離子體非均勻性通過調整一個或多個參數來補償,所述參數例如提供給矩陣加熱器的功率、被提供以產生等離子體的射頻功率、用于產生等離子體的一種或多種氣體的化學性質和/或流速、熱控制單元或制冷器的設置等。此外,襯底支撐件中固有的非均勻性使用區域和矩陣加熱器感測,并通過調整一個或多個參數進行補償。
聲明:
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