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    二維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列

    1163   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:28:49
    本發明公開了一種二維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列，包括上溝槽電極和下溝槽電極，上溝槽電極和下溝槽電極分別刻蝕在中間半導體基體表面；上溝槽電極內嵌有上中央電極，上中央電極和上溝槽電極間填充有上半導體基體；下溝槽電極內嵌有下中央電極，下溝槽電極和下中央電極間填充有下半導體基體；上溝槽電極和下溝槽電極的外寬均為2RX，下溝槽電極位于上溝槽電極下方，兩者垂直相距d3，且兩者水平方向四分之一部位重疊，上中央電極和下中央電極規格相同。通過吸雜氧化在芯片表面生成二氧化硅層，然后經標記與光刻將探測器圖形轉移到二氧化硅層上，再進行陰極電極和陽極電極的刻蝕和化學沉積擴散，最后進行損傷修復及封裝。
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    “二維排列雙面錯嵌式三維探測器及其制備方法、陣列” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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