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    可余輝光監測緩釋抗菌的鍺酸鋅基質納米材料及其制備方法

    950   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:28:49
    本發明公開了一種可余輝光監測緩釋抗菌的鍺酸鋅基質納米材料及其制備方法，屬于抗菌納米材料制備領域。本發明所述鍺酸鋅基質抗菌納米材料的化學組成通式為Zn2GeO4:xM，0.001≤x≤0.02，其中，Zn2GeO4為基質，M為具有抗菌作用的金屬離子。本發明中的鍺酸鋅基質抗菌納米材料經水熱法合成，制備簡單，成本低，可用于工業化生產；材料在細菌感染部位具有優異的廣譜抗菌性能，金屬離子緩釋可以長期維持較高的抗菌濃度，抗菌周期長，誘導細菌產生耐藥性的可能性極??；在細菌感染部位微酸性環境中，材料的余輝光強度隨著材料的降解變化，利用其余輝光強度變化可以實現感染部位抗菌過程的實時監測。
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    “可余輝光監測緩釋抗菌的鍺酸鋅基質納米材料及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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