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    半導體非球面加工方法

    917   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:29:44
    本發明公開了一種半導體非球面加工方法，其包括以下步驟：1）對待加工的非球面進行分析；2）根據MRP，結合工作函數，確定出數控小磨頭的工作參數，所述MRP為化學試劑在待加工非球面的半導體材料上的去除率；3）將半導體材料銑磨好最接近球面，然后固定在非球面數控加工中心上，將工作參數輸入到非球面數控加工中心，對半導體材料進行拋光；4）一個周期拋光結束后，對半導體非球面進行檢測，將檢測數據反饋給非球面數控加工中心，重復步驟2、3、4直到半導體非球面的面形精度達標。本發明公實現了對半導體非球面的面形高精度高光潔度的拋光。
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    聲明：
    “半導體非球面加工方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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