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    無掩膜版的圖案化薄膜制備方法

    825   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:29:45
    本發明公開了一種無掩膜版的圖案化薄膜制備方法。本發明采用激光直寫將鍍膜材料鍍于預處理后的待鍍基底上，得到圖案化薄膜。當待鍍基底位于鍍膜材料的上方時，鍍膜材料上放上待鍍基底，按照設定的圖形激光照射，激光透過待鍍基底，打在片狀/塊狀鍍膜材料上，被打到的鍍膜材料形成材料的團簇，濺射到待鍍基底上。當待鍍基底位于鍍膜材料的下方時，在待鍍基底上放上鍍膜材料，按照設定的圖形激光照射，激光打到鍍膜材料上，并穿透鍍膜材料，該鍍膜材料作為鍍膜源形成材料的團簇，濺射到待鍍基底上。本發明的方法不使用掩膜版，簡單實用，成本低廉，并且可以簡單的做到各種尺寸和材質基底的圖案化鍍膜。
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    聲明：
    “無掩膜版的圖案化薄膜制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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