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    調整CMP后晶圓膜厚均勻性的方法

    1173   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:31:07
    本發明公開了一種調整CMP(化學機械拋光)后晶圓膜厚均勻性的方法，調整CMP后晶圓膜厚均勻性的方法包括：提供一待拋光晶圓；對晶圓進行CMP制程；在晶圓上取多個測量點，多個測量點在晶圓上陣列排布；測量每個測量點處晶圓的膜厚值；在晶圓上以晶圓的圓心為原點建立坐標系，其中每個測量點在坐標系內的橫坐標為X，縱坐標為Y；根據橫縱坐標繪制統計圖，每個測量點在統計圖中的縱坐標為對應測量點的膜厚值，每個測量點在統計圖中的橫坐標為觀察分析統計圖中曲線輪廓，并調整對晶圓的各區的拋光壓力。根據本發明實施例的調整CMP后晶圓膜厚均勻性的方法，具有便于控制拋光壓力、晶圓表面厚度均勻性好等優點。
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    化學分析
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