本發明屬于薄層色譜分離技術領域,公開了一種基于MOFs復合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法,所述基于MOFs復合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法包括:進行涂覆有膠溶液的光子晶體薄層的制備;采用化學氣相沉積法進行硅?石墨烯光子晶體薄層的制備;進行光子晶體薄層表面羥基的恢復;對光子晶體薄層進行羧基修飾;進行MOFs復合光子晶體薄層的制備;進行薄層色譜分離。本發明通過二氧化硅和石墨烯膠層的涂覆實現硅?石墨烯光子晶體薄層的制備,可同步實現物質的高效分離和結構色檢出,強化了物質的吸附脫附過程,提高了對待分析物的選擇性,從而顯著提高分離效果,成功分離傳統薄層色譜無法分離的結構相近物質。
聲明:
“基于MOFs復合光子晶體薄層的薄層色譜分離方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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