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    半導體清洗設備

    1229   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:32:26
    本發明提供一種半導體清洗設備，包括本體和設置在本體中的化學液槽、水槽、化學液排放管、水排放管、清洗液配給組件和液體檢測部件，化學液槽和水槽分別用于對晶片進行化學清洗和水洗，清洗液配給組件分別與化學液槽和水槽連通，用于分別向化學液槽和水槽輸送化學液體和水；化學液排放管一端與化學液槽連通，另一端貫穿本體延伸至本體外部，用于使化學液槽中的化學液體排放至本體外部，水排放管一端與水槽連通，另一端貫穿本體延伸至本體外部，用于使水槽中的水排放至本體外部，液體檢測部件用于對泄漏至本體中的液體進行檢測。本發明提供的半導體清洗設備能夠降低本體漏液現象發生的概率，從而降低安全事故發生的概率，提高使用安全性。
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    聲明：
    “半導體清洗設備” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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