一種距離監控裝置,適用于化學機械研磨機,化學機械研磨機的研磨頭包括框架及薄膜,薄膜裝設于框架上,且薄膜與框架于研磨頭中形成多個氣囊。距離監控裝置包括多個距離檢測器,分別設置于氣囊所對應的框架上,將各個距離檢測器位于框架上的位置設為基準點,各個距離檢測器用以測量各個基準點與薄膜之間的距離。本發明可使經研磨后的基材具有較佳的表面平坦度。
聲明:
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