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    IGBT用硅襯底拋光片的制備方法

    840   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:36:08
    本發明公開了一種IGBT用硅襯底拋光片的制備方法。該方法依次包括以下工序：硅單晶生長→晶體檢測→滾磨→多線切割→倒角→雙面研磨→化學腐蝕→POLY薄膜生長→中間檢測→化學機械拋光→清洗→出廠檢驗，其中，在拉晶過程中采用水平磁場，磁場強度為1000?5000高斯，磁場形狀為馬鞍形，晶轉為5?15rpm，堝轉為0.1?3rpm，晶體生長時控制液面位置波動范圍為±0.5mm；在倒角工序中，分別使用1000#倒角輪倒角2次，3000#倒角輪倒角2次，最終倒角幅長控制在500?700μm；在POLY薄膜生長工序中，載具轉速為0.5?3rpm，LPCVD的工藝溫度區間為600?630℃，LPCVD的氣體流量區間為50?200mL/min。采用本發明能夠獲得晶體微缺陷極少、幾何參數高度精密的IGBT用8英寸硅襯底拋光片。
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    “IGBT用硅襯底拋光片的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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