本發明公開了一種晶圓在晶舟上擺放方式的派工選擇系統及擺放方法,在化學氣相沉積工藝的其它條件一定的情況下,晶圓表面沉積薄膜的厚度與其對應的光罩透光率呈線性負相關,并結合反應爐的通氣情況,先統計分析同一批次晶圓對應的光罩透光率范圍,再針對每個晶圓,根據晶圓對應的光罩透光率在光罩透光率范圍中的位置確定晶圓在晶舟上的擺放位置:對于光罩透光率高的晶圓,選擇晶圓從晶舟下端開始擺放的子方式;對于光罩透光率低的晶圓,選擇晶圓從晶舟上端開始擺放的子方式。如此,能最大限度度地對化學氣相沉積工藝中同一批次晶圓的表面沉積薄膜的厚度進行補償調節,使得化學氣相沉積工藝中同一批次的多個晶圓的表面沉積薄膜的厚度一致。
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