本發明實施例提供了一種晶片清洗設備和一種晶片清洗設備的控制方法,所述設備包括:排風模塊,第一檢測模塊和風機過濾模塊;所述風機過濾模塊用于在通電后,對所述晶片清洗設備的內部吹風;所述排風模塊用于在通電后,向所述晶片清洗設備外部排風;所述第一檢測模塊,用于檢測所述排風模塊的排風壓力信息,并在所述排風壓力信息滿足預設排風條件時,控制所述風機過濾模塊通電;以及在所述排風壓力信息不滿足所述預設排風條件時,控制所述風機過濾模塊斷電。根據本發明實施例,在檢測到排風模塊的排風壓力信息滿足預設排風條件時,才控制風機過濾模塊通電,保證不會將設備內部的化學反應污染物向設備外部擴散。
聲明:
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我是此專利(論文)的發明人(作者)