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    2.5-10um譜段高透低應力薄膜及其制備方法

    875   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:45:48
    本發明公開一種2.5-10um譜段高透低應力薄膜，所述薄膜為鍍制在多光譜硫化鋅表面的HfON薄膜，所述薄膜制備方法為：一、對多光譜硫化鋅基片分別采用去離子水沖洗、分析純丙酮超聲清洗和分析純無水乙醇超聲清洗，然后將基片表面擦凈；二、在真空室內安裝鉿靶，然后安裝多光譜硫化鋅基片，鉿靶和多光譜硫化鋅基片之間設置擋板；三、將真空室抽真空至3.0×10-3～5.0×10-3Pa，并將基片加熱到150～200℃；四、利用等離子體轟擊清洗鉿靶10～15分鐘；五、離子轟擊清洗鉿靶后，打開擋板，采用離子束反應技術，并通入氮氣和氧氣，制備HfON薄膜。本發明為基底材料提供良好的物理、化學及紅外光學性能的保護薄膜。
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