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    基于反應回滯曲線制備TiN涂層的控制方法

    1172   編輯:管理員   來源:中冶有色網  
    2023-03-19 07:45:51
    本發明公開了一種基于反應回滯曲線制備TiN涂層的控制方法,包括采用高功率脈沖磁控濺射技術,以Ti金屬單質靶為金屬靶,N2作為反應氣體,基于反應氣體通入流量先增加后減小測量金屬靶放電電壓,完成對反應氣體通入流量的最小二乘法回歸擬合,橫坐標為檢測點的反應氣體流量,縱坐標為檢測點的放電電壓,擬合出“反應氣體流量?放電靶電壓”反應回滯曲線;在反應氣體流量上升和下降過程中,同一個氣體流量對應的放電電壓的差值達到電壓差閾值的區域作為反應回滯曲線的過渡區域,在過渡區域選擇反應氣體的通入流量,實現在基底表面沉積TiN涂層的化學計量比和制備速率的控制。利用該方法能夠簡單、高效選取制備參數,以高速率穩定制備TiN涂層。
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