本發明公開了一種晶圓承載裝置,包括晶圓承載臺、用于支撐晶圓承載臺的承載支柱、設置在承載支柱內的緩沖裝置和預清洗裝置,還包括可旋轉、可豎直移動以及可水平移動的真空晶圓夾盤,真空晶圓夾盤四周還設置多個有限位夾具和驅動限位夾具相對于真空晶圓夾盤移動的驅動裝置,還包括設置在真空晶圓夾盤上的位置傳感器,利用可移動的限位夾具矯正晶圓相對于晶圓承載裝置的位置,從而在檢測系統不報警的情況下,依然能夠保證晶圓位置準確,避免在后續的工藝過程中晶圓相對目標位置錯位的情況發生,設置預清洗裝置,在晶圓卸載至晶圓承載臺之前對晶圓進行預清洗,去除晶圓表面殘留的化學液,避免殘留的化學液對已加工完成的晶圓產生腐蝕。
聲明:
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