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    新型MRAM中銅互聯上底電極的制備方法

    952   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:54:08
    本發明提供一種新型MRAM中銅互聯上底電極的制備方法，包括：提供一基底，所述基底包括依次堆疊設置的金屬互聯層、第一阻擋層以及介電層，在所述第一阻擋層及介電層中形成有底部通孔，所述底部通孔與所述金屬互聯層相連；在所述基底表面依次沉積第二阻擋層和銅層，所述銅層充滿所述底部通孔；以所述第二阻擋層作為拋光終點，對所述銅層進行化學機械拋光，并在檢測到所述第二阻擋層后進行過拋光，以完全去除所述第二阻擋層之上的銅層；在拋光后的界面上沉積底電極金屬層；圖案化所述底電極金屬層，得到MRAM底電極。本發明能夠簡化并徹底顛覆現有大馬士革銅的化學機械拋光工藝，提高生產效率并降低工藝穩定性風險。
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    聲明：
    “新型MRAM中銅互聯上底電極的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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