本發明公開了一種適用于物理氣相沉積工藝的石英鍋等離子熔射方法，涉及石英鍋等離子熔射技術領域，包括以下步驟：S1、遮蔽操作；S2、噴砂處理；S3、第一次檢測操作；S4、第一次清洗操作；S5、第一次烘烤操作；S6、熔射操作；S7、第二次檢測操作；S8、第二次清洗操作；S9、超聲操作；S10、第二次烘烤操作。本發明石英鍋用于制造集成電路的物理氣相沉積中的pre?c l ean XT工藝腔體中，物理氣相沉積技術其原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發并使被蒸發物質電離，在電場的作用下，使被蒸發物質或其反應產物沉積在工件上，其制備的薄膜具有高硬度、低摩擦系數、很好的耐磨性和化學穩定性等優點。
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編輯：管理員
來源：中冶有色網
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2025年07月24日 ~ 26日 
