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    半導體的加工方法

    1232   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:55:18
    本申請公開了一種半導體的加工方法，包括以下步驟：（1）晶圓處理制程，先將晶圓適當清洗，再進行氧化及化學氣相沉積，然后進行涂膜、曝光、顯影、蝕刻、離子植入和金屬濺鍍，最后完成數層電路及元件加工與制作；（2）晶圓針測制程，用針測儀對晶圓的每個晶粒檢測其電氣特性；（3）構裝，將單個的晶粒固定在塑膠或陶瓷制的芯片基座上，并把晶粒上蝕刻出的引接線端與基座底部伸出的插腳連接，封膠，最后蓋上塑膠蓋板，用膠水封死；（4）測試制程，將封裝后的芯片置于測試裝置的模擬環境下測試其電氣特性，包括消耗功率、運行速度和耐壓度，經測試后的芯片，依其電氣特性劃分為不同等級。
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    聲明：
    “半導體的加工方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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