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    碳化硅晶片的拋光液

    1075   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:57:10
    本發明一種碳化硅晶片的拋光液，其中各組分所占重量百分比為：二氧化硅拋光液10-30%，粒徑為50-100nm；納米級金剛石研磨液0.1-10%，粒徑為50-200nm；輔助氧化劑3-20%；pH調節劑0.5-10%；去離子水為余量；混合后的所述碳化硅晶片的拋光液pH值范圍為7-9。適用于對SiC晶片進行化學機械拋光。該拋光液的特點是去除速率快（可在1-3小時內完成）、加工出的碳化硅晶片較光亮，表面強光燈觀測無明顯劃痕且平整、均勻，表面粗糙度經原子力顯微鏡檢測可穩定達到＜0.3nm。
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    聲明：
    “碳化硅晶片的拋光液” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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