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    SiC/SiO2界面結構、SiCMOS器件及其制備方法

    1029   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 07:57:11
    本申請公開了一種SiC/SiO2界面結構、SiC MOS器件及其制備方法，涉及金屬氧化物半導體場效應管的制備領域。本申請的可以有效抵抗漏電流的SiC/SiO2界面結構，是通過在SiC上生長O終端的SiO2薄膜，得到具有較大導帶臺階的界面結構。經計算分析，無缺陷的O終端界面結構是可以有效抵抗漏電流的高質量界面。本申請的SiC/SiO2界面結構應用于SiC金屬氧化物半導體場效應管MOSFET器件，可以提高器件性能。本申請的SiC/SiO2界面結構可以采用化學氣相沉積技術結合硅氧化工藝進行制備，結構和操作工藝簡單，易于控制。
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    聲明：
    “SiC/SiO2界面結構、SiCMOS器件及其制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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