本發明公開了一種單晶硅制備工藝中排放氬氣尾氣的凈化回收方法,其主要包括以下:1)凈化流程;2)再生流程;3)降溫流程和4)置換流程。本發明還公開了對應的氬氣回收裝置及其工藝。該裝置包含有:化學鏈燃燒反應器(7),換熱器(5),吸附劑反應器(20),循環水降溫裝置(16)和(21),壓縮機(2),循環風機(27),空氣冷干機(14),氧分析儀(29),保溫套(8)和(8’),輔助加熱裝置(6)以及相應的控制閥門。目前的裝置具有工藝流程簡單,能耗低,氬氣回收率高的優點。
聲明:
“單晶硅制備中排放氬氣的回收方法與裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)