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    光譜研究金屬及合金之緩蝕劑的作用及其擇優化表面技術

    858   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:01:27
    光譜研究金屬及合金之緩蝕劑的作用及其擇優化表面技術。本發明屬于光譜學與金屬腐蝕與防護技術相結合的技術領域。固定光譜電解池（如圖）由以半圓形硅柱2作載體，表面化學鍍金，電沉積被研究對象的金屬為電極1(銅線8相接)，對電極純鉑電極3，及參比飽和甘汞電極4，進出N2氣口5，6構成，并置全反射的光路中，以溶液進出口7,將緩蝕劑于池中換液，并靜置數小時，使電極表面自組裝上緩蝕劑分子。用原位表面增強紅外光譜，對上樣品進行電位調制分析。與以往技術相比，其通過在紅外窗口半圓形硅柱上，鍍金屬納米薄膜為電極，又利用原位表面增強紅外技術，研究不同緩蝕劑分子在金屬表面隨電位變化的吸附構型，了解緩蝕劑作用過程，使此技術在金屬或合金防蝕與保護上有更有效的廣泛應用。
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