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    用于脫除展青霉素的納米材料的合成與應用

    797   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:01:29
    本發明屬于分析化學技術領域，尤其涉及一種用于脫除展青霉素的納米材料的合成與應用，本發明采用2?Oxin為替代模板，AM為功能單體，以合成的Fe3O4@SiO2@CS?GO磁性納米粒子為載體，通過表面印跡法制備了特異性針對于Pat吸附的磁性MIP。Fe3O4的加入使得最終制備的分子印跡吸附材料具有磁性，有利于材料與基質間的分離，免去了過濾、離心等繁雜的操作步驟，方便材料的回收。
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    聲明：
    “用于脫除展青霉素的納米材料的合成與應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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    化學分析
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