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    低電容ESD芯片制造工藝

    764   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:04:30
    本發明屬于ESD芯片制造領域，尤其是一種低電容ESD芯片制造工藝，針對現有的ESD芯片漏電流高，電容值高問題，現提出如下方案，其包括以下步驟：S1、擴散前處理：采用N型外延襯底，通過酸、SC3#配方清洗工序，對硅片表面進行化學處理；S2、零層光刻，初氧；S3、基區光刻：正膠工藝刻出基區；S4、基區補硼；S5、硼氧化：生成薄氧；S6、正面接觸區光刻，正面蒸鋁，正面金屬光刻；S7、真空合金，中檢；S8、正面貼膜保護，背面磨片，背面蒸鈦鎳銀錫；S9、測試，本發明漏電流低，電容值低。
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    聲明：
    “低電容ESD芯片制造工藝” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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