一種化學氣相沉積方法包括下列步驟:提供高真空室,并且在高真空室內:放置基板表面;平行于基板表面放置掩模,其中掩模包括一個或多個開口;調節基板表面和掩模之間的確定的尺寸的間隙;和利用視線傳播使至少一種前體物種的多個化學前體束朝向掩模取向,所述多個化學前體束中的每一個都從獨立的點狀源發出,并且化學前體的分子穿過一個或多個掩模開口撞擊到基板表面上以沉積在其上。至少一部分化學前體分子在分解溫度下在基板表面上分解。該方法還包括調節基板表面的溫度使其高于或等于化學前體分子分解溫度,從而保持高于掩模溫度,并且將掩模溫度維持在分解溫度以下,從而導致在基板表面上但不在掩模上的化學前體的分解和膜的生長;和利用加熱裝置加熱基板表面。
聲明:
“基于模板掩模的沉積方法及在制造載有多功能可追溯代碼的標簽上的應用” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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