描述用于修補具有底切蝕刻的APSM掩模的方法。利用原子力顯微鏡的針尖來移除板上的缺陷上方的吸收層以及板上的缺陷的第一部分。利用電子束誘導蝕刻來移除缺陷的第二部分,該電子束誘導蝕刻包括:在缺陷的第二部分上方引入第一氣體以便形成用于蝕刻缺陷的第一化學物;以及停留電子束。利用電子束誘導沉積法來在板上重建具有懸垂結構的吸收層。在板上方引入第二氣體以便形成用于在板上形成不透明材料的第二化學物。使電子束停留預定時間以便誘導在板上形成該不透明材料。對于一個實施例,測量缺陷的輪廓以便控制蝕刻。
聲明:
“用于修補交替相移掩模的方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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