本發明公開了一種激光誘導CVD裝置,包括真空腔體,抽氣系統,真空計,氣體輸運系統以及激光器。真空腔體是化學反應發生的場所,氣體輸運系統把發生反應的物質輸送到真空腔內,激光給化學反應的發生提供能源,抽氣系統保證化學反應的真空環境,真空計測試腔體的真空度。其中的氣體輸運系統采用脈沖進氣和特殊的管道口設計,特殊的管道口設計保證了氣體以一定流量均勻的進入真空腔體,配合優化的氣體流量和真空度可實現氣體以分子流的方式進入真空腔體,脈沖進氣可進一步的實現氣體的精確控制。本發明通過脈沖進氣和特殊管道口的設計,在激光的作用下可實現聚合物的單分子層化學氣相沉積。
聲明:
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