針對現有技術中Si作為光解水陽極材料易被腐蝕的問題,本發明提供一種晶面誘導構筑Si/TiO2復合光陽極的制備方法,并將其應用于光解水制氧方面。方法如下:將清洗及去除氧化層的Si基底放入到無水乙醇中,然后放入到四氯化鈦溶液中,反復幾次制備Si和TiO2的異質界面連接層;通過水熱反應在Si基底表面合成TiO2薄膜保護層,并在N2保護的條件下,將Si/TiO2在管式爐中退火處理。將所得到的Si/TiO2復合光陽極用于光解水的光陽極進行電化學測試。本發明操作簡單,設備要求較低,更加易于操作。同時對于堿性溶液具有較好的抗腐蝕能力。
聲明:
“晶面誘導構筑Si/TiO2復合光陽極的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發明人(作者)