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    多晶硅片的鈍化處理方法

    797   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:17:31
    本發明公開了一種多晶硅片的鈍化處理方法，具有如下步驟：a、將多晶硅片背面拋光；b、將多晶硅片背面用化學試劑清洗后，淋干水滴；c、低溫處理，在80～90℃的溫度下將硅片烘干，烘干時間為一小時；d、使用PECVD法對多晶硅片進行等離子氧化鋁薄膜的沉積，沉積后在硅片表面形成小于2nm厚度的SiO2薄膜層；e、熱處理，將沉積后的多晶硅片在400℃溫度下進行退火處理；f、測試，對多晶硅片進行穩定狀態下的少子壽命測試。本發明通過硅片的前期濕-熱處理，在硅片表面形成了一個極薄的SiO2薄膜，且這層薄膜中富含水汽所帶來的羥基，為與氧化鋁中的氧原子的結合提供了很好的化學結構基礎，有效地提升了硅片鈍化效果及穩定性。
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    聲明：
    “多晶硅片的鈍化處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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