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    Cr2O3晶體的制備方法

    721   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:04
    本發明涉及一種Cr2O3晶體的制備方法，包括如下步驟：以鉻前體材料為反應源，以鹵素為輔助材料，將襯底置于生長區；以及在常壓和保護氣體氛圍下，以氫氣和所述保護氣體的混合氣體作為工作氣體，加熱襯底和所述反應源，在所述襯底上化學氣相沉積形成Cr2O3晶體。經過測試驗證，上述Cr2O3晶體的制備方法通過鹵素(碘)輔助控制化學氣相沉積方法，制得的Cr2O3晶體的橫向尺寸達到微米級(3μm～5μm)。
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    “Cr2O3晶體的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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