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    頂層金屬互連層的制造方法

    1064   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:04
    本發明提供一種頂層金屬互連層的制造方法，包括：提供半導體襯底，在所述半導體襯底上形成器件結構，并在所述器件結構上形成若干層底層金屬互連層；利用電鍍工藝，在所述若干層底層金屬互連層上形成頂層金屬互連層，所述頂層金屬互連層的晶粒尺寸小于1μm；接著，直接對所述頂層金屬互連層進行化學機械研磨工藝；在所述頂層金屬互連層上覆蓋鈍化層。本發明所述頂層金屬互連層的制造方法，能夠避免頂層金屬互連層晶粒尺寸增加，使晶體尺寸控制在小于1μm的范圍之內，從而在保持半導體器件的晶圓導通測試合格率同時，保證在化學機械研磨工藝過程中，提高頂層金屬互連層的機械抗壓力，避免半導體器件發生斷裂、坍塌等問題，進一步提高產品良率。
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    “頂層金屬互連層的制造方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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