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    零歐姆柱狀電阻的制備方法

    942   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:05
    本發明公開一種零歐姆柱狀電阻的制備方法，包括以下步驟：S1、采用化學鍍鎳工藝，在陶瓷基體表面鍍制內電阻層，使內電阻層阻值小于1Ω；S2、在陶瓷基體兩端壓接帽蓋；S3、采用電鍍鎳工藝，在內電阻層表面鍍制外電阻層，外電阻層與內電阻層共同構成零歐姆柱狀電阻的電阻膜，使電阻膜的阻值小于0.05Ω；S4、在外電阻層表面涂覆絕緣層；S5、在帽蓋表面電鍍錫層，得到所述零歐姆柱狀電阻；本發明結合化學鍍鎳工藝與電鍍鎳工藝，可以快速使鎳層厚度增加，使得外電阻層與內電阻層共同構成的電阻膜阻值最低可以做到0.01～0.03Ω，可以完全滿足零歐姆電阻測試小于0.05Ω的要求，且工藝簡單，成本低廉。
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    “零歐姆柱狀電阻的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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