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    用于分子束外延InAs襯底的表面處理方法

    1003   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:06
    本發明屬于化合物半導體晶片拋光技術領域，具體涉及一種用于分子束外延InAs襯底的表面處理方法。該方法包括化學機械拋光和表面硫化鈍化處理，其中，化學機械拋光采用包含膠體二氧化硅、弱堿性氧化劑、有機鈉鹽、pH調節劑和水的堿性拋光液。本發明較好地解決了InAs襯底這種較軟的化合物襯底拋光時易產生的劃痕、顆粒污染及在外延生長時表面難脫氧等問題，采用該方法處理的InAs襯底可穩定生長出高質量的超晶格紅外探測器外延片。
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