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    SiC外延層的制備方法及裝置

    980   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:07
    本發明提供一種SiC外延層的制備方法及裝置，其中制備方法包括以下步驟：提供一SiC襯底，并將SiC襯底放入一反應腔室中；向反應腔室通入反應氣體及摻雜氣體，使反應氣體及摻雜氣體吹向SiC襯底表面，且反應氣體及摻雜氣體的氣流方向垂直于SiC襯底表面；加熱SiC襯底，并采用化學氣相沉積法在SiC襯底表面生長SiC外延層；采用光波監測系統監測正在生長的SiC外延層的摻雜濃度，并根據監測到的摻雜濃度控制通入的摻雜氣體的氣體流量。本發明將反應氣體及摻雜氣體垂直吹向SiC襯底表面，并可采用光波監測系統實時監測摻雜濃度，從而在所述SiC襯底表面獲得厚度均勻性及摻雜濃度均勻性均較高的SiC外延層，實現對摻雜濃度的精確控制，獲得高產率、高性能的SiC外延層。
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