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    砷化鎵單晶位錯坑的腐蝕方法及腐蝕液配方

    781   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:23:07
    本發明公開了一種GaAs單晶位錯坑的腐蝕方法及腐蝕液配方，涉及化學工藝技術領域。所述方法包括：將包括晶向偏轉角在預設偏轉角范圍內的待測GaAs{100}晶片的觀察面進行拋光處理，獲得待測晶片；按照預設比例配制氫氟酸、雙氧水、去離子水的混合液為腐蝕液，并將其置于腐蝕槽中；將腐蝕槽置于有冰水混合物的水浴鍋內，并維持腐蝕槽內腐蝕液溫度在3～8℃范圍內；開啟光源，使光照射在所述腐蝕槽底部；將待測晶片置于鏤空底座上，并將鏤空底座放入所述腐蝕槽內，使鏤空底座上的待測晶片處于腐蝕槽中冷光源的照射范圍內，并令腐蝕液浸沒待測晶片，反應30～50分鐘。本發明能避免腐蝕過程中晶片碎裂，以及能夠降低腐蝕掉量。
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    “砷化鎵單晶位錯坑的腐蝕方法及腐蝕液配方” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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