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    校正裝置

    898   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:28:35
    本實用新型提供了一種校正裝置，應用于干法刻蝕機臺以及化學氣相沉積機臺真空腔體中的靜電吸附盤上，靜電吸附盤包括一吸附盤本體，以及設置于吸附盤本體上的一承托臺，承托臺的橫基面呈圓形，承托臺的頂部用以放置一晶圓，其中，校正裝置包括：一中空的圓形柱體，用以套設于所承托臺上；環形出部，水平的環設于圓形柱體的靠近承托臺的一端的頂部，環形突出部的頂面形成一測量面；測量面與承托臺的頂面位置齊平；多個刻度尺，徑向均布于測量面上。其技術方案的有益效果在于，可根據測量面上的多個刻度尺測量出放置于承托臺頂面的晶圓樣品是否出現位置偏移以及具體的偏移量，方便使用者對機臺真空腔體中進行針對性的校正，提高了校正精度。
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    聲明：
    “校正裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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