本發明公開了一種報廢光刻掩膜版的回收處理方法,包括:將報廢光刻掩膜版表層的鉻金屬層用酸性腐蝕液腐蝕掉,得到膜版基底;用去離子水沖洗膜版基底表面;對膜版基底的雙面表層進行襯底級的CMP化學拋光;將拋光后檢驗合格的膜版基底做鍍鉻前預清洗,先用酸洗,再用去離子水沖洗,然后用堿洗,再用去離子水沖洗,酸堿清洗重復多次;在膜版基底表面鍍一定厚度的鉻層,制作新的光刻掩膜版。通過對報廢膜版基底的優化處理,從而使報廢的膜版得到再次利用,不僅解決了行業資源的浪費,而且還變相的降低了生產成本??梢源蟠筇岣吖饪贪娴姆磸屠么螖?,工藝簡單,適合大規模批量生產。
聲明:
“報廢光刻掩膜版的回收處理方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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