一種產生矩陣以將化學機械拋光系統的多個可控制參數與拋光速率分布相關的方法包括拋光測試基板。使用將第一參數設置為第一值的基線參數值,來針對第一時間段拋光測試基板,并且使用將第一參數設置為修改的第二值的第一修改參數值,來針對第二時間段拋光測試基板。在拋光期間監控測試基板的厚度,并且針對第一時間段決定基線拋光速率分布,并且針對第二時間段決定第一修改拋光速率分布?;诨€參數值、第一修改參數、基線拋光速率分布和第一修改拋光速率分布,來計算矩陣。
聲明:
“普雷斯頓矩陣產生器” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業用途,請聯系該技術所有人。
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