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    光學平面基片的制作方法

    829   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:28:37
    本發明屬于光學儀器及配件技術領域，尤其是涉及一種光學平面基片的制作方法；其特征在于它包含有依次進行的以下步驟：選取原材料、預成型、仿形、研磨、拋光、清洗、檢驗。本發明采用物理與化學結合的方式制作光學平面基片，工序大部分采用機器進行，人工參與的很少；因此，本發明具有以下有益效果：光學平面基片制作時間短、產品間的差異小、適合于工業大規模應用、效率高，所制作的平面基片平面度、平行度、粗糙度參數好。
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    聲明：
    “光學平面基片的制作方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
    我是此專利(論文)的發明人(作者)
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