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    高度取向ZnO納米錐陣列結構材料的制備方法

    1086   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:51
    本發明公開了一種高度取向的ZnO納米錐陣列的濕化學生長方法，采用旋涂鍍膜法將ZnO溶膠涂敷在基底上，經熱處理制備一層均勻的納米級ZnO晶種層；用KOH和Zn(NO3)2配制ZnO陣列生長液；將基底生長面（即含有晶種層的面）懸空倒扣浸沒于上述生長液中，在20～50℃水浴條件下，反應1～12h，在所述的基底上制備ZnO納米錐陣列。該方法具有設備及工藝簡單、易操作、成本低和適合工業化生產等優點。本發明制備出的ZnO納米錐陣列具有高度致密、粗細均勻、取向性好、平整度高、性能穩定、與基底結合牢固等特點，在超疏水表面、探測器、壓電變頻器、紫外激光和太陽能電池等方面有廣闊的應用前景和巨大的市場效益。
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