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    集成電路結構及其形成方法

    1027   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:51
    本發明提供了一種集成電路結構及其形成方法，集成電路結構包括襯底；層間介質層，形成于所述襯底上，所述層間介質層中形成有開口；擴散阻擋層，所述擴散阻擋層覆蓋所述開口的側壁和底壁；導電結構，填充于所述開口中，且所述導電結構的頂面高度低于所述擴散阻擋層的側壁的頂面高度；刻蝕停止層，覆蓋所述層間介質層的頂面、所述導電結構的頂面、所述擴散阻擋層的頂面和所述擴散阻擋層的部分側壁。通過利用化學機械研磨的工藝在研磨到擴散阻擋層時，增加過研磨工藝中研磨導電材料層的時間，去除所述開口內預定高度的導電材料層，增加后續的蝕刻停止層與所述擴散阻擋層側壁附著的表面積，使蝕刻停止層更牢靠，降低測試中刻蝕停止層剝離的風險。
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    “集成電路結構及其形成方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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