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    多芯片組件同質鍵合系統質量一致性改進方法

    896   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:56:51
    本發明公開了多芯片組件同質鍵合系統質量一致性改進方法，該方法在原有工藝的厚膜電阻修調并測試完畢后，增加金厚膜鍵合區表面局部化學機械拋光工藝，具體是：選擇貴金屬拋光液，通過局部拋光機對每個鍵合區進行拋光，使其表面平整度≤0.1μm；然后用機械掩模方法，在高真空濺射臺或蒸發臺中，在鍵合區表面形成一層鋁薄膜、或鎳-鉻-鋁或鉻-銅-鋁復合薄膜；最后，按常規混合集成電路集成工藝，將半導體芯片和片式元器件集成在成膜基片上，半導體芯片的鍵合采用硅-鋁絲鍵合，管腳與基片之間采用金絲鍵合，實現質量一致性好、可靠性高的金-金、鋁-鋁同質鍵合。此類器件應用領域廣泛，特別適用于大功率、高可靠、宇航級等領域。
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    聲明：
    “多芯片組件同質鍵合系統質量一致性改進方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究，如用于商業用途，請聯系該技術所有人。
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    化學分析
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