本發明涉及一種用于基片的濕法處理設備,具有主體外殼,其包括用藥液對基片、尤其是硅片進行濕法化學處理的多個處理槽,沿處理槽延伸和傳送基片的水平傳動系統,為了便于對設備的處理區進行監測和維護保養,以及對于配套設施在設備里的集成實行優化,并因而有助于簡化設備結構,減少設備的占地面積,本發明建議,所述設備具有兩個處理區,但配套設施以及在設備上方頂部和下方槽部之間的連接位于這兩個處理區之間,由此使得可從兩側接近處理區。
聲明:
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