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    銪摻雜硅酸釓晶體的用途及其制備方法

    951   編輯：管理員   來源：中冶有色網  
    2023-03-19 08:57:00
    本發明公開了銪摻雜硅酸釓晶體的用途及其制備方法，銪摻雜硅酸釓晶體用作熱釋光晶體，其化學表達式為Gd2?xSiO5：xEu，式中x＝0.03～0.07；該晶體有低溫、高溫熱釋峰；低溫熱釋峰位于143℃，波長為585nm，陷阱深度為1.16eV，頻率因子為2.76×109s?；高溫熱釋釋峰位于352℃，發射波長978nm，陷阱深度為1.61eV，頻率因子為3.84×1012s?1。銪摻雜硅酸釓熱釋光晶體采用光學浮區法制備，包括粉體制備、料棒制備、晶體生長、退火處理四個步驟，其中晶體生長時提拉速度可以達到15mm/h、生長方向為[212]。本發明銪摻雜硅酸釓熱釋光晶體具有良好的熱釋性能，對γ射線具有良好輻射劑量熱釋光線性相應；可用于文物斷代和輻射劑量探測；制備工藝的過程簡單、速度快。
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